Intel se hace con las primeras máquinas High-NA EUV de ASML

Intel se hace con las primeras máquinas High-NA EUV de ASML

ASML e Intel han anunciado la última fase de su colaboración para avanzar en la tecnología de litografía de semiconductores con la compra a ASML del sistema TWINSCAN EXE:5200, el primer sistema de producción de volumen extremo ultravioleta (EUV).